紫外線光源在表面清洗處理中的作用

    近年，由于大功率超高出力低氣壓UV放電管開發(fā)的進(jìn)展，以及隨著微電子等產(chǎn)品的超微細(xì)化，在微電子、超精密器件等產(chǎn)品的制造過程中，由短波長紫外線及其產(chǎn)生的臭氧對其產(chǎn)品的表面進(jìn)行超精密清洗或改善其表面的接著性、附著性的干式光表面處理技術(shù)的實(shí)用化進(jìn)展得很快?，F(xiàn)在，需要提高成品率的半導(dǎo)體器件、液晶表示元件、光學(xué)制品等制造中，紫外線UV和O3臭氧并用的干式光表面處理技術(shù)已成不可缺少的技術(shù)手段。作為氟里昂的替代技術(shù)，光表面清洗技術(shù)將逐漸取代濕式的傳統(tǒng)技術(shù)。

    本公司的國內(nèi)首先開發(fā)的高出力與超高出力低氣壓UV放電管發(fā)出的具有代表性的紫外線是253.7nm及184.9nm，光子能量分別為472 KJ/mol和647KJ/mol，能切斷絕大多數(shù)的分子結(jié)合。UV照射固體表面后，表面的污染物有機(jī)分子結(jié)合被強(qiáng)的光能切斷、氧化，而后被分解成CO2 和H2O等易揮發(fā)性物質(zhì)，最終揮發(fā)消失。表面被清洗后的其清潔度極高，能把膜狀的油污清洗到單分子層以下。

特點(diǎn)

○大氣中處理，簡單方便，環(huán)保無二次污染，無需加熱、藥液等處理。
○清潔度極高，單分子層以下，可以得到從來處理方法難以想象的清潔度、接著性
○國內(nèi)獨(dú)有的超高出力短波長紫外線光源，僅需短時(shí)間（秒單位）照射，發(fā)揮強(qiáng)大的處理能力，從實(shí)驗(yàn)室進(jìn)入實(shí)用。
○不對材料的表面產(chǎn)生損傷。
○相對于濕式清洗或等離子清洗成本低。
○沒有液體表面張力的影響，超微細(xì)部的清洗容易。

表面清洗的效果
 
  作為參考，表比較了對普通玻璃的各種清洗方式的處理效果。

 各種清洗方式處理后普通玻璃的接觸角

UV干式清洗與濕式清洗的比較

　　干式清洗不受溶液表面張力的干擾，隨著半導(dǎo)體微細(xì)化的深入，100nm以下晶元等元件的生產(chǎn)中不可或缺的清洗技術(shù)，隨著人們對環(huán)境要求的提高干式清洗也將逐步替代濕式的傳統(tǒng)清洗技術(shù)。